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万方查重系统
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160KD分子为大疱性类天疱疮的次要抗原及一个新的基底膜成分
朱学骏, Ninmi Yayoi, Bystryn J-C
IDENTIFICATION OF 160KD MOLECULE AS A COMPONENT OF THE BASEMENT LOUS PEMPHIGOID ANTIGEN
ZHU Xue-Jun, NINMI Yayou, BYSTRYN J-C
中华皮肤科杂志 . 1990, (
6
): 367 -369 .